发布时间:2021-11-23 阅读量:1143 来源: 我爱方案网 作者: 我爱方案网汇编
在测试设置中使用长电缆或容性卡盘时,测试仪器输出的电容会提高,导致测量不准确或不稳定,尤其是非常灵敏的弱电测量,因为它同时还要提供或扫描DC电压。为解决这些挑战,泰克科技旗下公司吉时利为Keithley 4200A-SCS推出了两种新的源测量单元(SMU)模块,即使在高测试连接电容的应用中,仍能进行稳定的弱电测量。
由于设计人员不断降低电流电平以节约能源,这个测量挑战正不断增长,大型LCD面板测试正是这种情况,这些面板最终将用于智能手机或平板电脑中。可能存在高电容测试连接问题的其他应用包括:卡盘上的纳米FET I-V测量,采用长电缆的MOSFET的传递特点,通过开关矩阵的FET测试,电容器泄漏测量。
支持的电容提高了1000倍
与其他灵敏的SMU相比,新推出的Keithley 4201-SMU中等功率SMU和4211-SMU高功率SMU(选配4200-PA前置放大器)大幅度提高了最大负载电容指标。在支持的最低电流范围上,4201-SMU和4211-SMU可以供电和测量的系统电容要比当今系统高1,000倍。例如,如果电流电平在1~100pA之间,那么吉时利模块可以处理最高1μF(微法拉)的负载。相比之下,最大负载电容竞品在这种电流电平下,在测量准确度劣化前只能容忍1,000pF。
这两种新模块为面临这些问题的客户提供了重要解决方案,节省了原来的调试时间,节约了重新配置测试设置以消除额外电容的费用。在测试工程师或科研人员注意到测量错误时,他们首先必须找到错误来源。这本身就要花费数小时的工作,他们通常必须考察许多可能的来源,然后才能缩小范围。一旦发现测量错误源自系统电容,那么他们必须调节测试参数、电缆长度,甚至重新安排测试设置。这离理想状态相去甚远。
那么最新SMU模块在实践中是怎样工作的呢?我们看一下平板显示器和纳米FET研究中的几个关键应用。
实例1:平板显示器上的OLED像素驱动器电路
OLED像素驱动器电路印刷在平板显示器上OLED器件旁边。为测量其DC特点,通常会通过开关矩阵把它连接到SMU上,然后再使用12-16米长的三同轴电缆连接到LCD探测站上。由于连接需要非常长的电缆,所以弱电测量不稳定很常见。在使用传统SMU连接DUT(如下图所示)进行测量时,这种不稳定性在OLED驱动器电路的两条I-V曲线,也就是饱和曲线(橙色曲线)和线性曲线(蓝色曲线)中立显。
使用传统SMU测量的OLED的饱和和线性I-V曲线。
但是,在使用4211-SMU在DUT的漏极端子上重复这些I-V测量时,I-V曲线是稳定的,如下图所示,问题解决了。
使用吉时利最新4211-SMUs测得的OLED的饱和和线性I-V曲线。
实例2:拥有公共栅极和卡盘电容的纳米FET
纳米FETs和2D FETs测试需要使用一个器件端子,通过探测站卡盘接触SMU。卡盘的电容可能高达几毫微法拉,在某些情况下,可能必需在卡盘顶部使用传导连接盘来接触栅极。同轴电缆增加了额外的电容。为评估最新SMU模块,我们把两个传统SMU连接到2D FET的栅极和漏极,得到有噪声的Id-Vg磁滞曲线,如下图所示。
使用传统SMUs测得的2D FET的有噪声的Id-Vg磁滞曲线。
但是,在我们把两台4211-SMUs连接到同一器件的栅极和漏极时,得到的磁滞曲线是平滑稳定的,如下图所示,解决了研究人员一直要解决的主要问题。
使用两个4211-SMUs测得的平滑稳定的Id-Vg磁滞曲线。
4201-SMU和4211-SMU既可以在订购时预先配置到4200A-SCS中,提供全面的参数分析解决方案;也可以在现有单元中现场升级。升级可以在现场简便完成,无需把仪器送回服务中心,从而节约几周的中断时间。如需更多信息,敬请访问:https://www.tek.com/keithley-4200a-scs-parameter-analyzer
关于泰克科技
泰克公司总部位于美国俄勒冈州毕佛顿市,致力提供创新、精确、操作简便的测试、测量和监测解决方案,解决各种问题,释放洞察力,推动创新能力。70多年来,泰克一直走在数字时代前沿。
在电机驱动、电动汽车、快速充电和可再生能源系统中,低功耗辅助电源常被视为"幕后功臣"——尽管其功率等级远低于主功率系统,却直接影响着整套设备的可靠性与能效。面对提升可靠性、缩小体积、降低成本、规避供应链风险等多重挑战,设计人员亟需突破传统设计局限的创新解决方案。Wolfspeed全新推出的工业级 C3M0900170x 与车规级认证(AEC-Q101) E3M0900170x 碳化硅MOSFET系列,正为20-200W辅助电源设计提供关键赋能,助力工程师在性能与成本的博弈中开辟新路径。
在当今高速成像应用中,如机器视觉、自主导航、增强/虚拟现实(AR/VR/MR)和条码扫描,传统的卷帘快门图像传感器往往力不从心,会因运动模糊或空间失真严重影响图像质量。为克服这些挑战并精准“冻结”快速运动的物体,具备全局快门特性的先进CMOS图像传感器成为关键选择。安森美深知工程师在为高速应用筛选最优全局快门传感器时需权衡大量参数(如分辨率、光学格式、帧率、功耗、动态范围、全局快门效率GSE及信噪比SNR等)以及高级功能(如同步触发、嵌入式自动曝光、ROI选择),因此开发了创新的Hyperlux SG系列产品。
安森美SiC Combo JFET技术通过创新性集成常开型SiC JFET与低压Si MOSFET,构建出高性能共源共栅(cascode)结构,攻克了SiC器件常开特性的应用瓶颈。该方案兼具SiC材料的高压处理能力、超低导通电阻(RDS(on))与卓越热性能,以及Si MOSFET的易控常关特性,为大电流应用(如固态断路器、高功率开关系统)和多器件并联场景提供突破性的功率密度与效率解决方案。
IR:6红外芯片通过实质性的技术创新,显著提升了在面部识别、智能传感器和节能系统等应用中的关键性能(亮度、效率和图像质量)。它在人眼不可见的红外领域展现出卓越表现,特别是在安防领域以更高亮度、更低功耗和更优画质设定了新的距离覆盖和可靠性标准。
工业设备加速迈向电动化,对稳健、高效、适应性强的电池充电器需求激增。无论是手持工具还是重型机械,充电器必须应对严苛环境和全球通用电压输入(120-480 Vac),并优先满足小型化、轻量化及被动散热的设计要求。在这一关键任务中,功率因数校正(PFC)级的拓扑选择至关重要,它直接影响着系统效率、尺寸和成本。本文将剖析现代工业充电设计的核心挑战,重点对比传统升压 PFC 与日益流行的图腾柱 PFC 拓扑方案,并探讨碳化硅(SiC)MOSFET 如何颠覆性地赋能高效率解决方案,为工程师提供清晰的设计指导。