南大光电公司传来喜讯：中国在光刻胶上，有望打破美日垄断

众所周知，因为各种原因，导致我国在半导体领域发展进程较为缓慢，与西方一些国家相比，很多核心技术我们都无法掌控。

也正是因为在芯片领域我们没有核心技术，导致我国企业在发展的过程中，经常受到美国的打压制裁。

而美国利用自身的优势，疯狂打压我国企业，还发布了芯片断供政策，直接影响了全球半导体市场，导致芯片价格一度水涨船高。

此外，美国为了稳住自己在半导体领域的地位，开始向一些大企业抛去橄榄枝，例如台积电。

如今台积电已经前往美国建厂，美国也在台积电的帮助下，在芯片研究领域有所突破。

然而，对其它国家而言，这种现象却不知是福还是祸。

如果美国真的一直在半导体领域领先各国，对各个国家而言，也许一种“伤害”和危机。毕竟美国经常会使用某些手段，对其它国家进行打压和制裁，科技就是他们作威作福的把柄之一。

我国也是在华为事件后，深刻的意识到，必须在半导体领域，拥有属于自己的核心技术。

因此在面对美国的芯片封锁时，华为选择与美国硬刚到底，我国大力支持半导体行业的发展，半导体行业迎来事业的小高峰。

尽管国家和企业、社会都在支持半导体行业，但行业的进步需要解决的难题依然存在。

例如，芯片领域最重要的光刻机。

而我国在光刻机领域，一直都存在难以跨过的难题。众所周知，光刻制造领域的大佬是荷兰的ASML，我们想要到达荷兰ASML公司研究的领域，至少还要十多年。

不仅如此，光刻机的绝大部分重要部件，依旧被美日卡脖子，我们无法生产。不过，近来南大光电公司，传来了喜讯：中国在光刻胶上，有望打破美日垄断。

光刻胶是光刻机的重要核心部件，对我国而言，光刻胶的研发是一大难题。

一直以来，光刻胶都是被美、日等海外企业所垄断，这也就导致了我国在光刻机领域，一直无法打破垄断。

哪怕我们已经向荷兰ASML公司购买了一台高端光刻机，也不知道何时才能到达，想要打破芯片垄断，对中国企业来说，难！

美、日等企业都是通过不断研发，才研发出高端半导体光刻胶，逐渐垄断市场，我国也只能一步一步走。

好在南大光电这家企业，凭借自身的努力，研发出ArF光刻胶。如今ArF光刻胶正处于测试阶段，如果测试通过，我国将有望打破美日垄断。

其实南大光电能够做到这一点，真的非常不容易。

据悉，全球光刻机市场主要被日本企业垄断，日本企业在光刻胶市场中的占比，高达72%。

剩下的28%，有很大部分被美国占领，因此说整个光刻胶市场被美日垄断并不为过。

而我国一直以来在半导体领域就处于弱势，在光刻胶领域，更是一张白纸，没有任何的经验。

一个小白要与一群大佬对抗，谈何容易。就在此时，南大光电的研发，给了许多同样投身研发的企业带来一束亮光。

一旦南大光电测试通过，中国自产的ArF光刻胶将能投入量产，这一举动，将会直接打破美日在光刻胶上的垄断，中国光刻机的技术，也会因而得到发展。

如果南大光电能够按照其原来的计划，完成193nm光刻胶项目的测试，那么193nm光刻胶将能达到年产值高达25t。

这会使得我国在光刻机项目研发上得以进一步发展，还能够满足我国对芯片的需求。

作为一个制造业大国，我国对芯片的需求量非常高，美国也正是看中了这一点，才对中国实行芯片制裁，只是美国万万没有想到，它所想要的制裁的结果并没有出现。

相反的，在美国的制裁下，我们看清楚了事情的本质，更多的人明白，只有技术掌握在自己手中，才能够有自主权。

因此美国的这一番制裁，非但没有成功，反而起了反效果，让我国大力发展半导体行业，也让中国的半导体进入春天。

实际上中国未来对半导体的需求依旧庞大，对芯片的需求也只增不减，在庞大的市场利益驱动下，无数企业投身其中，相信在未来，我们在半导体领域，一定能够有所创新，甚至超越欧美等国家。

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