发布时间:2025-07-5 阅读量:83 来源: 我爱方案网 作者: wenwei
【导读】日本半导体制造装置协会(SEAJ)7月3日发布修订报告,预计2025年度(2025年4月-2026年3月)日本半导体设备销售额将达48,634亿日元,同比增长2.0%,连续第二年刷新历史纪录。2024年度销售额同比暴涨29.0%至47,681亿日元,首次突破4万亿日元大关。更关键的是,2026年度销售额预计跃升至53,498亿日元(约合5.3万亿日元),年增10.0%,成为史上首个跨越5万亿日元大关的年度;2027年将进一步增长至55,103亿日元,实现连续第四年创新高。
核心增长动力:AI与2nm制程投资爆发
● AI服务器与存储芯片需求:GPU、HBM(高带宽内存)的扩产需求成为核心引擎。韩国DRAM/HBM厂商(如三星、SK海力士)及中国台湾台积电的先进封装产能扩张,推动日本蚀刻、沉积设备订单激增。DISCO公司公开表示:“AI需求撑起半边天”。
● 2nm制程军备竞赛:台积电2025年下半年量产2nm计划带动设备采购潮,月产能预计年底达5万片。此外,日本本土企业Rapidus宣布2027年量产2nm,三星、英特尔同步加码投资,催生对日本GAA晶体管(环绕栅极)工艺设备的需求。
● 存储技术升级:300层以上NAND Flash及HBM的堆叠技术迭代,进一步拉动沉积、检测设备销售。
长期动能:边缘AI与全球半导体市场扩张
SEAJ预测,2027年增长将转向消费电子领域。搭载边缘AI的智能手机/PC产品预计占全球近50%,驱动成熟制程设备需求。同时,全球半导体市场同步向好:世界半导体贸易统计协会(WSTS)上修2025年全球销售额至7,008.74亿美元(年增11.2%),首次突破7000亿美元大关。
日本企业扩产应对需求
日本设备巨头东京威力科创(TEL)投资1,040亿日元新建宫城工厂,2027年投产后产能将提升至1.8倍,远期目标扩至3倍,重点生产等离子蚀刻设备。2025年1-5月,日本设备销售额已累计2.15万亿日元(同比+20.5%),连续7个月单月超4000亿日元,印证产能扩张紧迫性。
全球格局:日系设备市占率稳居第二
日本半导体设备全球市占率达30%,仅次于美国(35%-40%),领先荷兰ASML(15%)。在细分领域具备不可替代性:TEL的蚀刻机、DISCO的切割设备、尼康的光刻机均占据关键技术节点。
在工业自动化、新能源储能及多节电池管理系统中,高精度电流检测是保障系统安全与能效的核心环节。传统检测方案常受限于共模电压范围窄、抗浪涌能力弱、温漂误差大等痛点。国产RSA240系列电流检测芯片的推出,以**-5V~100V超宽共模输入范围和0.1%级增益精度**,为高压场景提供了突破性解决方案。
在工业4.0浪潮推动下,液位测量作为过程控制的核心环节,其精度与可靠性直接影响化工、能源、汽车等关键领域的生产安全。传统霍尔传感器受限于功耗高、温漂大、响应慢等瓶颈,难以满足智能设备对实时性与稳定性的严苛要求。多维科技推出的TMR134x磁开关传感器芯片,通过隧道磁阻(TMR)技术突破传统局限,为高精度液位监测提供新一代解决方案。
英飞凌科技股份公司近日宣布,其基于300mm(12英寸)晶圆的氮化镓(GaN)功率半导体量产技术已取得实质性突破,相关生产流程全面步入正轨。根据规划,首批工程样品将于2025年第四季度交付核心客户,标志着英飞凌成为全球首家在现有大规模制造体系内实现300mm GaN工艺集成的IDM(垂直整合制造)厂商。
市场研究机构Counterpoint Research最新报告显示,2025年第二季度中国智能手机市场同比小幅增长1.5%。这一温和回升主要由华为与苹果两大品牌驱动,其中华为以12%的同比增速领跑市场,时隔四年重回季度出货量第一宝座,而vivo则以9%的跌幅成为前五厂商中唯一下滑品牌。
三星电子在先进制程领域的最新进展引发业界高度关注。据报道,其3nm及2nm制程良率虽有提升,达到40%以上的量产门槛,但在与行业龙头台积电的较量中,性能和整体良率表现仍存在显著差距。这导致三星在争夺尖端制程大客户方面持续面临严峻挑战。