MOS管与晶闸管的工作结构区别

发布时间:2020-09-28 阅读量:3244 来源: 我爱方案网 作者:

mos管是金属—氧化物—半导体场效应晶体管,或者称是金属—绝缘体—半导体。MOS管的source和drain是可以对调的,他们都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下,这个两个区是一样的,即使两端对调也不会影响器件的性能。这样的器件被认为是对称的。


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双极型晶体管把输入端电流的微小变化放大后,在输出端输出一个大的电流变化。双极型晶体管的增益就定义为输出输入电流之比(beta)。另一种晶体管,叫做场效应管(FET),把输入电压的变化转化为输出电流的变化。FET的增益等于它的transconductance, 定义为输出电流的变化和输入电压变化之比。市面上常有的一般为N沟道和P沟道,而P沟道常见的为低压mos管。


MOS管结构原理图解。结构和符号(以N沟道增强型为例)在一块浓度较低的P型硅上扩散两个浓度较高的N型区作为漏极和源极,半导体表面覆盖二氧化硅绝缘层并引出一个电极作为栅极。(1)VGS=0时,不管VDS极性如何,其中总有一个PN结反偏,所以不存在导电沟道。VGS=0,ID=0, VGS必须大于0管子才能工作。  (2)VGS》0时,在Sio2介质中产生一个垂直于半导体表面的电场,排斥P区多子空穴而吸引少子电子。当VGS达到一定值时P区表面将形成反型层把两侧的N区沟通,形成导电沟道。 VGS》0→g吸引电子→反型层→导电沟道, VGS↑→反型层变厚→VDS↑→ID↑  (3)VGS≥VT时而VDS较小时:VDS↑→ID↑。 VT:开启电压,在VDS作用下开始导电时的VGS°。VT=VGS—VDS。 (4)VGS》0且VDS增大到一定值后,靠近漏极的沟道被夹断,形成夹断区。VDS↑→ID不变。


单向晶闸管是PNPN闪层结构,形成三个PN结,具有阳极人、阴极K和控制极G三个外电极。单向品闸管可等效为PNP,NPN两个晶体管组成的复合管。在阳极A之间加上正电压后,晶闸管并不导通。只有在控制极G加上触发电压时,VT1、VT2相继迅速导通,并且互相提供基极电流维持晶闸管导通。此时即使去掉控制极上的触发电压,晶闸管仍维持导通状态,直至所通过的电流小于晶闸管的维持电流时,晶闸管才关断。


双向晶闸管可以等效为两个单向晶闸管反向并联。双向晶闸管可以控制双向导通,因此除控制极G外的另两个电极不再分阳极、阴极,而称之为主电极T1、T2。当有触发电压加至控制极G时,双向晶闸管导通,井在触发电压消失后仍维持导通状态,电流既可从T1经过VS2流向T2,又可从T2经过VS1流向Tl。当电流小于晶闸管的维持电流时晶闸管关断。


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可关断晶闸管工作原理。普通单向或双向晶闸管导通后控制极即不起作用,要关断晶闸管必须切断电源,使流过晶闸管的正向电流小于维持电流IH可关断品闸管的特点是可以通过控制极关断,克服了上述缺陷。当可关断晶闸管控制极G加上正脉冲电压时晶闸管导通,当控制极G加上负脉冲电肤日寸晶闸管关断。


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