又一突破！国产光刻机再传重磅消息

近期，根据知识产权局发布，上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的“光刻投影物镜及光刻机”专利申请获得通过并且公告，上海微电子主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。

随着科技的飞速发展，芯片作为电子设备的核心组件，一直被视为现代工业的灵魂。而芯片制造工艺的先进性，直接决定了电子产品的性能和成本，光刻机是生产芯片过程中不可缺少的设备，其重要性愈发显著。

光刻机以其能将光掩模上的团转移到硅片或其他基底上，形成所需的电路或结构而被广泛应用于半导体制造领域，可以说是该领域的核心技术之一。然而，国内在光刻机领域一直处于落后状态，并随着海外对国内高新技术的持续封锁，国内厂商也在光刻机领域不断创新发展中。

目前全球光刻机市场规模超230亿美元，其中ASML占据了绝对的领先地位，国内也在采购其高级刻录机，但ASML向荷兰当局申请出口许可，却迟迟未能获批，致使 ASML未能按期发货。上海微电子的这一进展，凸显了国内光刻机产业开启技术创新、独立自主的道路，并且核心零部件能够自主掌握，不受“卡脖子”的风险。

而国内厂商在层层技术封锁中，在光刻机领域取得了显著的进展。且近期也在大力支持国产芯片发展，未来我国的科技公司也能够在世界舞台上与国际巨头同台竞争。