图腾柱PFC的传导电磁干扰解决方法与应用

发布时间:2025-01-21 阅读量:6817 来源: 综合网络 发布人: bebop

随着电力电子技术的发展,功率因数校正(Power Factor Correction, PFC)电路在电源系统中的应用越来越广泛。图腾柱(Totem Pole)PFC作为一种新型的无桥PFC拓扑结构,因其高效率和低成本的优势而受到青睐。然而,图腾柱PFC也带来了新的挑战,尤其是传导电磁干扰(Electromagnetic Interference, EMI)。本文将探讨图腾柱PFC中传导EMI的问题,并提出相应的解决方案。

一、引言 图腾柱PFC电路是通过两个开关管以互补方式工作来替代传统二极管整流桥的一种高效转换器结构。它能够在减少组件数量的同时提高系统的效率和功率密度。然而,这种结构也可能导致较高的开关噪声和电流谐波,从而产生传导EMI问题,影响电网和其他设备。

二、传导EMI的成因

  1. 开关动作:快速切换状态时产生的电压和电流变化会导致高频噪声。

  2. 电感电流纹波:电感元件中的电流波动会在电源线上引起额外的噪声。

  3. 布局设计:不良的PCB布局可能增加不必要的寄生参数,加剧EMI问题。

三、传导EMI的解决方法

  1. 优化开关频率:选择合适的开关频率可以降低EMI水平,通常较低的频率有助于减少辐射干扰。

  2. 使用软开关技术:采用零电压开关(ZVS)或零电流开关(ZCS)等软开关技术可以减少开关损耗并抑制开关瞬态。

  3. 滤波器设计:合理设计输入滤波器,包括共模和差模滤波器,能够有效衰减高频噪声。

  4. PCB布线优化:精心规划PCB走线,最小化回路面积,避免平行布线以减少串扰。

  5. 共模扼流圈:使用共模扼流圈来限制共模电流,这对减少传导EMI非常有效。

  6. 屏蔽与接地:良好的屏蔽措施和正确的接地策略可以帮助控制EMI。


相关资讯
英特尔携手安靠科技在韩国松岛K5工厂建立EMIB产线

英特尔已在安靠位于韩国松岛的K5工厂内部建立了先进封装技术“EMIB”的产线。

重磅!国内半导体设备巨头发布CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备

中微半导体发布CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备

全球上市在即!三星推出首款三折叠手机Galaxy Z TriFold四大升级亮点解析

今日,三星电子发表旗舰折叠新机Galaxy Z TriFold,重量仅309克,全部展开后长达10英寸沉浸式屏幕,给用户剧院级别的观影享受。

突发!半导体巨头捐赠36亿元股份!

突发!半导体巨头捐赠36亿元股份!