硅光技术突破：国产化PDK、TDK及ADK流片服务平台在光谷正式启用

近日，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台在中国光谷正式启动。该平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）建设并运营，标志着我国硅光领域实现了又一里程碑式的进步。

国家信息光电子创新中心自2018年于光谷揭牌以来，一直致力于解决我国信息光电子制造业的关键共性技术问题，并推动其首次商业化应用。七年来，该中心已为超过300家单位提供了支持服务，完成了800多次订单，并成功突破了如1.6T硅光互连芯片、2T芯粒以及145GHz强度调制器等关键技术瓶颈。

东湖高新区通过前瞻性布局，大力支持国家信息光电子创新中心建立12寸硅光芯片开发服务平台。这一平台提供稳定且开放的多项目晶圆（MPW）流片服务，促进了产业从单一的技术突破向集群化、规模化发展的转变。通过将多个芯片设计集成于同一晶圆进行流片，实现了成本的有效分摊，大大降低了研发门槛。

尤为值得一提的是，该平台所构建的硅光MPW服务模式，不仅包括达到国际先进水平的硅光PDK 1.0，还集成了TDK和ADK，为芯片从集成设计到封装验证提供了全流程支持。这极大地满足了科研成果转化和产品研制过程中的快速迭代需求，加速了项目的落地实施。

面对国产硅光芯片流片所面临的系统性挑战，MPW服务模式被证明是目前最为实际且关键的解决方案之一。它通过将多个工艺兼容的设计集成在同一晶圆上流片，有效降低了中小企业和科研机构的研发成本。对于高校和初创公司来说，这种模式更是将单次流片成本降至原来的十分之一甚至更低，有力地支撑了科研与小规模创新活动的持续开展。

总之，随着该平台的正式投用，我们有理由相信，它将进一步推动我国硅光技术的发展，助力更多前沿技术和产品的诞生，开启我国信息光电子产业的新篇章。