imec启动NanoIC试验线配备High NA EUV光刻机，聚焦2纳米以下工艺原型开发！

比利时研究机构imec近日宣布，根据欧盟《芯片法案》推动超先进半导体发展的“NanoIC”试验生产线已正式启用，此举标志着欧洲在全球芯片竞赛中提升自身地位迈出重要一步。

欧洲拥有众多芯片制造设备巨头，但其生产和设计的最先进芯片份额却很小，因此在AI驱动的芯片热潮中，欧洲基本上处于边缘地位，而这场热潮已经推动美国和亚洲企业的崛起。

NanoIC旨在弥合这一差距。欧洲并没有建造一座完整的商业工厂，而是押注于一种共享研究模式，该模式允许企业和实验室在投入数十亿欧元进行批量生产之前，对2nm以下的工艺步骤和集成进行原型开发。

2022年公布的《欧洲芯片法案》旨在到2030年将欧盟在全球半导体生产中的份额翻一番，达到20%。NanoIC将配备最先进的High NA（高数值孔径）EUV光刻机及其全套配套设备。imec预计将于2026年3月收到ASML的High NA EUV光刻机。

NanoIC试点生产线的总投资额为25亿欧元，其中包括欧盟芯片联合计划和弗拉芒政府提供的14亿欧元公共资金，以及来自行业领军企业的11亿欧元私人捐款，其中荷兰光刻机巨头ASML的捐款额最大。

面对先进制程制造长期由亚洲和美国主导的格局，欧洲选择以共享研发模式聚焦2纳米以下工艺的原型开发，旨在规避大规模制造的资本与市场风险，还能转而强化其在技术前沿环节的研发主导能力。