imec启动NanoIC试验线配备High NA EUV光刻机,聚焦2纳米以下工艺原型开发!

发布时间:2026-02-11 阅读量:1493 来源: 发布人: suii

比利时研究机构imec近日宣布,根据欧盟《芯片法案》推动超先进半导体发展的“NanoIC”试验生产线已正式启用,此举标志着欧洲在全球芯片竞赛中提升自身地位迈出重要一步。


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欧洲拥有众多芯片制造设备巨头,但其生产和设计的最先进芯片份额却很小,因此在AI驱动的芯片热潮中,欧洲基本上处于边缘地位,而这场热潮已经推动美国和亚洲企业的崛起。


NanoIC旨在弥合这一差距。欧洲并没有建造一座完整的商业工厂,而是押注于一种共享研究模式,该模式允许企业和实验室在投入数十亿欧元进行批量生产之前,对2nm以下的工艺步骤和集成进行原型开发。


2022年公布的《欧洲芯片法案》旨在到2030年将欧盟在全球半导体生产中的份额翻一番,达到20%。NanoIC将配备最先进的High NA(高数值孔径)EUV光刻机及其全套配套设备。imec预计将于2026年3月收到ASML的High NA EUV光刻机。


NanoIC试点生产线的总投资额为25亿欧元,其中包括欧盟芯片联合计划和弗拉芒政府提供的14亿欧元公共资金,以及来自行业领军企业的11亿欧元私人捐款,其中荷兰光刻机巨头ASML的捐款额最大。


面对先进制程制造长期由亚洲和美国主导的格局,欧洲选择以共享研发模式聚焦2纳米以下工艺的原型开发,旨在规避大规模制造的资本与市场风险,还能转而强化其在技术前沿环节的研发主导能力。

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