台积电2nm机密外泄案将宣判：四人被判刑，最高判罚14年

导读：台积电作为全球半导体制造龙头，其核心技术安全备受关注。近日，一起涉及前、在职工程师与设备供应商合谋窃取2nm先进制程机密的案件引发广泛关注。该案不仅牵涉多人非法外泄营业秘密，更暴露出供应链环节中的潜在风险。

台积电离职工程师陈力铭、在职工程师吴秉骏、戈一平涉泄漏关键技术，遭中国台湾检方依违反安全法等罪起诉，知识产权及商业法院近期辩论终结，定于4月27日宣判，另查出陈力铭前年涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，以手机偷拍机密资料，今裁定陈力铭、陈韦杰2人自4月1日及8日起延押2月。

据了解，在2025年7月，台积电在例行内部稽核中发现异常数据流向，怀疑有员工涉嫌非法获取并外泄关键技术资料。经深入调查后，公司于7月8日正式向检方提出告诉，揭开了一场横跨在职与离职员工、设备供应商乃至境外技术使用的复杂泄密案。

检方随即于同年7月25日至28日指挥法务部调查局展开大规模搜索与约谈行动，锁定四名关键人物：前工程师陈力铭、在职工程师吴秉骏与戈一平，以及前台积电员工陈韦杰。四人先后被声请羁押禁见，并陆续遭起诉。

据中国台湾高等检察署知识产权检察分署起诉书指出，自2023年起至2025年上半年，陈力铭多次指示仍在台积电任职的吴秉骏与戈一平，非法拍摄并传送涉及2nm制程的关键技术资料，包括良率分析、设备参数设定及材料规格等核心营业秘密。这些资料随后被用于TEL内部优化蚀刻机台性能，以提升其在台积电2nm产线设备招标中的竞争力。

更令人震惊的是，检方后续查出，陈力铭早在2024年5月就已指使另一名前台积电工程师陈韦杰，使用手机偷拍数十张高度机密的2nm原料与设备技术文件。此举不仅违反《营业秘密法》，更触犯《国家安全法》中关于“核心关键技术域外使用”的重罪条款。

事件曝光后，TEL一名卢姓行销经理疑似为掩盖证据，主动删除云端硬盘中存储的台积电机密文件，涉嫌湮灭刑事证据。检方因此追加起诉该经理及TEL公司本身，并求处高额罚金。

综上所述，检方依安全法及湮灭刑事证据等罪嫌，追加起诉陈力铭、陈韦杰、卢姓经理及TEL，并分别对陈力铭求刑7年、陈韦杰8年8月、卢姓经理1年，TEL则求处罚金2500万元新台币。

全案侦查终结后，检方于今年1月提起第二次公诉；陈韦杰移审后，也遭知识产权及商业法院裁定续押。知识产权及商业法院近期辩论终结，将在今年4月27日上午11时宣判，同时命吴秉骏、戈一平于宣判期日到庭聆判。

随着4月27日宣判日临近，此案或将创下台湾首例因“意图域外使用”而重判营业秘密窃取罪的司法先例。