美国新法案仍限制ASML光刻机对华出口限制,但有所放宽

发布时间:2026-04-17 阅读量:5421 来源: 发布人: bebop

我爱方案网4月17日消息,据路透社报道,美国众议院共和党议员Michael Baumgartner于4月2日提出的《MATCH法案》已发布修订版本。该法案旨在填补现行对华半导体设备出口管制的漏洞,并推动与荷兰、日本等主要设备供应国的政策协同,以巩固美国在人工智能等关键技术领域的领先地位。


尽管最新版本删除了部分争议性条款,如针对全中国的低温蚀刻设备限制,但其核心限制依然保留,包括对荷兰ASML公司浸没式深紫外光(DUV)光刻机对华出口的限制,以及对中芯国际、长江存储、长鑫存储等特定中国半导体企业的供应门槛。


据了解,《MATCH法案》于4月2日由共和党众议员Michael Baumgartner提出,并获跨党派支持。其核心目标在于填补现行对华半导体设备出口管制的漏洞,同时推动美国与日本、荷兰等主要半导体设备供应国的政策一致性,以维持美国在人工智能领域的技术主导地位。


但是,相较于4月初发布的版本,最新的《MATCH法案》版本已删除多项争议性条款,包括原先计划对整个中国实施的低温蚀刻设备限制。当时业界批评该法案范围过广,甚至被形容为“失控列车”,这将严重冲击美国及盟友国内设备厂商的业绩。


不过,最新的修正版《MATCH法案》仍保留关键限制措施。根据草案内容,外国企业不得向被美方列为限制使用美国技术的中国半导体业者供应设备,涵盖中芯国际、长江存储与长鑫存储等。此外,针对相关设备的维修与服务,也需取得许可证,单相关申请已不再采取“一律拒绝”(policy of denial)的审查政策。


值得注意的是,该法案亦对美国政府与盟友的协商进度设定期限,若未能在时限内完成政策对齐,美方将进一步单方面扩大管制措施。


美国自2022年实施大规模芯片出口管制以来,持续与荷兰、日本协调设备限制政策,虽已取得部分进展,但美国设备商普遍认为竞争环境仍未完全公平。


中国方面则表达反对立场。中国驻美大使馆发言人刘鹏宇表示,中方将密切关注相关发展,并强调反对美方以国家安全为由,推动对中国的技术封锁。


面对美方持续推动的排他性技术封锁,中国驻美大使馆发言人刘鹏宇明确表示,中方坚决反对任何国家以国家安全为名,构建排他性贸易集团,扰乱全球产业链和供应链的稳定。他强调,中国始终是维护全球产业链安全稳定与国际贸易秩序的积极力量。美方《MATCH法案》的最新动向,不仅反映了其在技术竞争中的焦虑,也对全球半导体产业的协作格局构成了严峻挑战。中方将持续密切关注事态发展,并坚定维护自身正当发展权益。


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