Nexperia新推出的LFPAK56 MOSFET器件,改善了爬电距离与电气间隙

发布时间:2018-06-11 阅读量:875 来源: 我爱方案网 作者: lina编辑

Nexperia,作为分立、 逻辑和 MOSFET 器件的全球领导者,近日宣布 MOSFET 的LFPAK56封装系列中的两款器件目前已可投入使用, 其经改善的爬电距离与电气间隙满足额定电压在 15V 到 32V 之间的电池供电设备的 UL2595 要求。 器件与行业标准的 Power-SO8 占用空间 100% 兼容;尚无其它紧致表面安装器件能满足要求源极端头和漏极端头之间最小爬电距离与电气间隙为 1.5mm 的 UL2595 标准。



与使用引线接合法构造的一些相竞争 Power-SO8 类型不同,Nexperia 的 LFPAK56 封装采用一次性焊接至芯片表面的铜夹构造而成。这降低了扩展电阻,赋予 LFPAK56 出色的电气和热特性并提高了可靠性。增强型 SOT1023A 封装中的新款 PSMN0R9-30ULD 和 PSMN1R0-40ULD N 沟道 MOSFET 的爬电距离为 1.5mm,电气间隙为 1.55mm。PSMN0R9-30ULD 器件的额定电压为 30V, 电阻为 0.87mΩ,电流为 300A,PSMN1R0-40ULD 的额定电压为 40V,电阻为 1.1 mΩ,电流为 280 A。

国际产品营销经理 Eric Su 评论道:“UL2595是一个重要的很有可能被其他国际监管机构采用的美国标准。此外,设备制造商宁愿设计一款符合最严格标准的全球产品,也不愿针对不同地理位置设计不同版本的产品。因此,设计人员必须意识到常规的 Power-SO8 器件达不到 UL2595,但有兼容且方便替换的器件可供选择。”

PSMN0R9-30ULD 和 PSMN0R9-40ULD MOSFET 是 Nexperia 的 NextPowerS3 系列器件的一部分,具有低 RDS(on)、最大电流和牢固安全工作区 (SOA) 的优点,是由电池供电的电机控制应用方面的完美选择。



相关资讯
AI引爆芯片扩产潮:2028年全球12英寸晶圆月产能将破1100万片

国际半导体产业协会(SEMI)最新报告指出,生成式AI需求的爆发正推动全球芯片制造产能加速扩张。预计至2028年,全球12英寸晶圆月产能将达1,110万片,2024-2028年复合增长率达7%。其中,7nm及以下先进制程产能增速尤为显著,将从2024年的每月85万片增至2028年的140万片,年复合增长率14%(行业平均的2倍),占全球总产能比例提升至12.6%。

高通双轨代工战略落地,三星2nm制程首获旗舰芯片订单

据供应链消息确认,高通新一代旗舰芯片骁龙8 Elite Gen 2(代号SM8850)将首次采用双轨代工策略:台积电负责基于N3P(3nm增强版)工艺的通用版本,供应主流安卓厂商;而三星则承接其2nm工艺(SF2)专属版本,专供2026年三星Galaxy S26系列旗舰机。此举标志着高通打破台积电独家代工依赖,三星先进制程首次打入头部客户供应链。

美光2025Q3财报:HBM驱动创纪录营收,技术领先加速市占扩张

在AI算力需求爆发性增长的浪潮下,存储巨头美光科技交出超预期答卷。其2025财年第三季度营收达93亿美元,创历史新高,其中高带宽内存(HBM)业务以环比50%的增速成为核心引擎。凭借全球首款12层堆叠HBM3E的量产突破,美光不仅获得AMD、英伟达等头部客户订单,更计划在2025年末将HBM市占率提升至24%,直逼行业双寡头。随着下一代HBM4基于1β制程的性能优势验证完成,一场由技术迭代驱动的存储市场格局重构已然开启。

对标TI TAS6424!HFDA90D以DAM诊断功能破局车载音频安全设计

随着汽车智能化升级,高保真低延迟高集成度的音频系统成为智能座舱的核心需求。意法半导体(ST)推出的HFDA80D和HFDA90D车规级D类音频功放,以2MHz高频开关技术数字输入接口及先进诊断功能,为车载音频设计带来突破性解决方案。

村田量产全球首款0805尺寸10μF/50V车规MLCC,突破车载电路小型化瓶颈

随着汽车智能化电动化进程加速,自动驾驶(AD)和高级驾驶辅助系统(ADAS)等关键技术模块已成为现代车辆标配。这些系统依赖于大量高性能电子控制单元(ECU)和传感器,导致车内电子元件数量激增。作为电路稳压滤波的核心元件,多层片式陶瓷电容器(MLCC)的需求随之水涨船高,尤其是在集成电路(IC)周边,对大容量电容的需求尤为迫切。然而,有限的电路板空间与日益增长的元件数量及性能要求形成了尖锐矛盾,元件的高性能化与小型化成为行业亟待攻克的关键难题。