英飞凌称其下一代Aurix微控制器将使用嵌入式非易失性存储器

发布时间:2022-11-29 阅读量:1060 来源: 我爱方案网整理 发布人: Aurora

据英飞凌称,其下一代Aurix微控制器将使用嵌入式非易失性存储器,特别是电阻式随机存取存储器(RRAM),而不是嵌入式闪存(eFlash),并将在台积电的28纳米节点上制造。  

 

虽然基于台积电28纳米eFlash技术的Autrix TC4x系列微控制器样品已经交付给主要客户,但基于台积电28纳米RRAM技术的第一批样品将于2023年底提供给客户。英飞凌表示,Autrix TC4x系列微控制器专为ADAS而设计,可提供新的E/E架构和经济实惠的AI应用。  


嵌入式闪存微控制器自推出第一批发动机管理系统以来,就被用作汽车中的ECU,市场上大多数MCU系列都基于eFlash技术,但该技术一直在努力迁移到28纳米以下,并且也被认为效率低于RRAM。英飞凌认为,与台积电的合作成功奠定了RRAM在汽车领域的基础,并使其Autrix系列微控制器具有更广泛的供应基础。  

 

新型存储器中,RRAM不仅满足高读写速度和存储密度的要求,同时延迟可降低1000倍,可满足未来智能驾驶高实时数据吞吐量。安全性方面,RRAM具备可靠性,未来有望出现高性能、高集成度、高稳定性和低功耗的车规RRAM存储器。  

 

RRAM有多种变体,通常在标准 CMOS 逻辑上沉积过渡金属氧化物 (TMO) 层。每个公司的材料配方和分层结构可能是独一无二的,但通常 RRAM 是基于金属离子和氧空位在电压下的迁移,以建立和断开存储单元中的丝状传导路径。  

 

英飞凌称其下一代Aurix微控制器将使用嵌入式非易失性存储器

 

英飞凌声称,台积电提供的带有 RRAM 的 Aurix 微控制器将提供更高的抗扰度,并允许按位写入而无需擦除,从而实现优于嵌入式闪存的性能。英飞凌表示,循环耐力和数据保留与闪存相当。  

 

台积电业务发展高级副总裁Kevin Zhang表示,台积电和英飞凌已经在一系列不同应用中就RRAM技术进行了近十年的合作,将TC4x迁移到RRAM将为在微控制器缩小到更小的节点方面开辟新的机遇。  

 

目前,台积电的非易失性存储器解决方案包括闪存、自旋传递扭矩MRAM(STT-MRAM)和RRAM。该代工厂还在探索相变RAMPCRAM)和自旋轨道扭矩MRAMSOT-MRAM)技术。  

 

2018年,台积电开始量产汽车用40纳米eFlash技术,但其40纳米超低功耗嵌入式RRAM技术,完全兼容CMOS工艺,已于2017年底进入风险生产。2021年,代工厂的40纳米RRAM技术成功进入量产,28纳米和22纳米节点也可作为物联网市场的低成本解决方案。   

 

RRAM的研究进展

 

在商业化上,Crossbar、昕原半导体、松下、AdestoElpida、东芝、索尼、美光、海力士、富士通等厂商都在开展RRAM的研究和生产。在代工厂方面,中芯国际、台积电和联电都已经将RRAM纳入自己未来的发展版图中。已量产的海外RRAM存储器主要有Adesto130纳米CBRAM和松下的180纳米RRAM。松下(Panasonic)在2013年开始出货RRAM,成为世界第一家出货RRAM的公司。接着,松下与富士通联合推出了第二代RRAM技术,基于180纳米工艺。而Adesto 一直在缓慢地出货低密度 CBRAM;中国的昕原半导体在Crossbar的基础上实现了技术核心升级和工艺制程的改进,实现28纳米量产,并且已建成自己的首条量产线,拥有了垂直一体化存储器设计加制造的能力;兆易创新和Rambus宣布合作建立合资企业合肥睿科微,进行RRAM技术的商业化,但目前还无量产消息。   

 

RRAM的四大发展机遇

 

物联网:AIoT需要数据的实时交互,因此不仅要求存储器低功耗,也需要高读写和低延迟。目前的NOR Flash存储密度低、容量小、功耗高,无法实现高写入速度。而RRAM在保证读性能的情况下,写入速度可提升1000倍,同时可实现更高存储密度和十分低的功耗,未来将会是取代NOR Flash成为万物智联时代存储器的最佳选择。  

 

智能汽车:未来单车存储容量将达到2TB-11TB,一辆L4/L5级自动驾驶汽车至少需要74GB DRAM1TB NAND。新型存储器中,RRAM不仅满足高读写速度和存储密度的要求,同时延迟可降低1000倍,可满足未来智能驾驶高实时数据吞吐量。  

 

数据中心:RRAM相较NAND可提升100倍的读写性能,同时保持更低的功耗和高存储密度,有望解决未来数据中心高能效比,低延迟的需求,实现更高性能的AI数据中心。

 

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