发布时间：2023-10-16 阅读量：972 来源: 综合网络 发布人: bebop
10月16日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿称，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，该设备能够将理论中的芯片图案，以“盖章”的方式实现转移。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。
佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。官方消息显示，佳能早在2004年开始秘密研发NIL技术，2014年美国分子压印公司（现佳能纳米技术）加入佳能集团，该研发消息才被公开。
资料显示，传统的光刻机需要把芯片图案投射在涂抹光刻机的晶圆表面，整个过程离不开光源，可以理解用光作为刻刀，雕刻出芯片线路图。但纳米压印以物理手段，将几纳米的栅极电路复制在模板中，然后再脱模得到芯片。
相对于传统的光刻技术，纳米压印具有显著优势，纳米压印的制程简单，无需复杂的光刻设备和化学材料，从而降低了制造成本。使用纳米压印制造芯片，成本的降低幅度可达四成，并节省九成电量。
这一设备或将有利于中国芯片产业，众所周知，一直以来，荷兰ASML公司都被限制不能向中国大陆客户出货EUV光刻机，这也导致中国在高端光刻设备上的供应短缺。
对于中国芯片产业而言，面临着供应商垄断问题的依赖外国光刻机制造商的局面，加剧了自主创新的迫切性。因此，突破EUV光刻机领域的技术封锁，成为中国芯片产业重要的发展方向。
佳能研发的纳米压印技术为中国芯片产业提供了一个新的发展思路，纳米压印极具商业发展潜力，它所表现出来的优势足以超越传统的光刻机，有望成为未来芯片制造领域的支柱，并进一步加快中国半导体产业解开镣铐的进程。
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