发布时间:2025-07-3 阅读量:708 来源: 我爱方案网 作者: wenwei
【导读】三星电子近期对其晶圆代工业务展开战略性调整,将发展重心从追求制程节点的技术领先转向提升商业盈利能力。这一战略重组引发业界高度关注,其核心举措包括:暂停与台积电在尖端制程上的直接竞争,转而集中资源攻克即将量产的2nm工艺,并积极拓展与英伟达等头部客户的深度合作。
战略重心转向盈利与量产能力
三星晶圆厂明确将资源聚焦于成熟制程优化及2nm节点的商业化落地。此举旨在改善此前3nm GAA工艺因良率问题导致的市场表现。行业分析师指出,三星正通过精简技术路线、强化生产稳定性来重塑客户信心,为即将到来的2nm量产周期奠定基础。
2nm工艺取得关键突破
据半导体产业链验证,三星当前2nm GAA工艺良率已突破40%关键节点,预计2025年下半年实现量产。这一进展成为其争夺英伟达下一代GPU订单的核心筹码。由于台积电2nm产能已被苹果、英特尔等巨头提前锁定,英伟达正积极寻求第二供应商以实现供应链多元化。三星凭借与英伟达在Switch 2芯片(8nm制程)建立的合作基础,成为最具竞争力的替代选择。
HBM技术协同打造全栈优势
三星同步强化存储芯片与代工业务的协同效应:
1. HBM3E量产突破:已向AMD Instinct MI355X加速器稳定供货12层堆叠HBM3E,验证其先进封装能力
2. 下一代HBM4布局:计划2025年推出基于MR-MUF封装技术的HBM4产品,瞄准英伟达GB200等AI平台需求
3. 一站式解决方案:通过"存储+逻辑芯片"整合服务提升客户粘性,直接对标台积电CoWoS先进封装生态
重塑行业竞争格局
三星的技术路线图显示,其计划在2nm节点实现快速迭代:
● 2025年:第一代2nm工艺量产
● 2026年:推出性能提升的第二代2nm
● 2027年:导入背面供电技术的第三代2nm 这种敏捷开发策略有望在台积电产能饱和的窗口期,为高通、英伟达等客户提供替代方案,进而改变先进制程市场台积电独大的局面。
近日,AI芯片企业寒武纪(Cambricon)发布业绩预告,其营收或利润出现惊人增长,同比增幅高达4300%,引发资本市场和科技行业的广泛关注。这一数据不仅标志着寒武纪自身发展的重大突破,也折射出中国AI芯片行业在技术突破、市场拓展和生态构建方面的显著进展。
BLDC电机控制与驱动器技术正朝着智能化、集成化、高效化方向持续演进。
霍尔效应是指当电流垂直于外磁场方向通过导体时,在导体两侧会产生电势差的现象。在现代材料科学和半导体工业中,霍尔效应测试已成为表征材料电学性能的重要手段,能够精确测量载流子浓度、迁移率、电阻率等关键参数。然而,精确的霍尔测量面临着多重技术挑战:微弱信号的检测(通常为微伏级)、高精度电流源需求、复杂的温度环境影响以及多参数同步测量需求。
Seal Ring,中文常译为“密封环”或“保护环”,是位于芯片最外层的一圈特殊结构,通常由多层金属和介质材料构成,环绕在芯片有源电路区域(即核心功能模块)的四周。它并非用于信号传输或数据处理,而是作为一种物理和电气的“防护屏障”,主要作用是保护芯片内部精密的电路结构免受外部环境和制造工艺的影响。
14名犯罪嫌疑人因非法获取、泄露华为公司商业秘密,被法院依法判处有期徒刑。