国产突破！上海芯上微装首台350nm步进光刻机启航，迈向高端半导体装备自主化之路

2025年11月26日星期三 - 在半导体产业迎来重大进展的背景下，位于上海的芯上微装科技股份有限公司（AMIES）昨日宣布了一项里程碑式的成就：公司自主研发的首台350nm步进光刻机（型号AST6200）成功完成出厂调试与验收，并已发往客户现场。

此次发布不仅象征着我国在高端半导体制造设备领域取得关键性突破，也标志着国产半导体装备制造向高端化、自主化迈进的重要一步。作为国内领先的半导体设备制造商，芯上微装通过多年的光学系统设计、精密运动控制以及对半导体工艺的深入研究，推出了这款高性能且全自主可控的步进式光刻设备——AST6200。

核心性能亮点概览

• 高分辨率成像技术：采用大数值孔径投影物镜及多种照明模式，结合可变光瞳技术，确保达到350nm的高分辨率。

• 精准套刻能力：配置了先进的高精度对准系统，实现正面80nm和背面500nm的精确套刻，极大地提高了多层图形的套刻精度和器件良率。

• 高效的生产效率：配备I-line光源（波长365nm），支持从2英寸到8英寸不同规格基片的快速切换，并拥有高速直线电机基底传输系统和高速高精度运动台系统，极大提升了产能。

• 广泛的材料兼容性：不仅能处理Si、SiC等常见材质，还适用于InP、GaAs等多种特殊材料，同时支持平边、双平边、Notch等多种基片类型。

• 全面的软件自主权：搭载由芯上微装完全自主研发的全栈式软件控制系统，提供从底层驱动至上层工艺管理的全方位自主可控解决方案。

这一系列创新技术的应用，使得AST6200成为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造领域的理想选择。随着这台设备的成功交付，中国在高端光刻机市场上的竞争力将进一步增强，为推动全球半导体行业的发展贡献更多力量。