EUV光刻机技术新突破!实现纳米孔全晶圆级制造

发布时间:2025-12-22 阅读量:61 来源: 发布人: bebop

导读:比利时微电子研究中心(IMEC)宣布利用阿斯麦(ASML)最先进的极紫外光刻(EUV)设备,首次实现纳米孔在整片300毫米晶圆上的高精度、高一致性批量制造。这一突破不仅解决了传统纳米孔制备方法效率低、成本高、难以量产的瓶颈,更将推动分子传感技术在生物医学、病毒检测、DNA分析乃至分子数据存储等领域的广泛应用。


我爱方案网12月22日消息,近日比利时微电子研究中心(IMEC)成功借助阿斯麦(ASML)最先进的EUV光刻设备,在整片300毫米晶圆上实现了直径约10纳米的固态纳米孔的高均匀性制造。这一成果被ASML公关负责人称为“一项出人意料却极具潜力的生物医学应用”,标志着纳米孔技术从实验室走向规模化产业化的关键一步。


长期以来,纳米孔的制造主要依赖聚焦离子束(FIB)、透射电子显微镜(TEM)等技术。这些方法虽能实现高精度加工,但普遍存在速度慢、成本高、仅适用于小面积样品等缺陷,严重制约了其在实际场景中的大规模部署。


IMEC此次采用EUV光刻技术,成功在标准300毫米晶圆上批量制备出高度一致的纳米孔结构。这不仅大幅提升了制造效率和良率,还确保了器件性能的可重复性与稳定性。更重要的是,该工艺完全兼容现有半导体产线,为未来低成本、高通量的纳米孔传感器芯片量产铺平了道路。


据了解,纳米孔的特性在生物医学领域极具研究价值。从名字不难推断,纳米孔本质上是一种微小的孔道,直径仅为数纳米。若用更通俗的表述解释:这类孔道的直径约为人类头发丝的万分之一。


如此微小的孔道有何用途?基于分子与纳米孔的相互作用原理,其可被应用于生物医学传感器。纳米孔检测技术的核心原理如下:

测量流经纳米孔的离子电流;


当分子穿过孔道时,会使电流产生波动,而波动特征可反映出分子的尺寸、结构、电荷属性及相互作用方式;


借助这种独特的电信号特征,就能以高灵敏度区分不同类型的分子。


通过这种方式,经极紫外光刻技术制备的纳米孔,可充当生物医学传感的“分子关卡”,实现对病毒、蛋白质、脱氧核糖核酸(DNA)等单个分子的检测与识别。这一特性对于分子的精准鉴定与分析至关重要。此外,比利时微电子研究中心指出,调整固态纳米孔的尺寸,还可拓展其在过滤技术与分子数据存储领域的应用场景。






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