台积电2纳米技术外泄案：离职工程师勾结在职员工，向日企输送尖端技术！

导读：台积电2纳米核心关键技术遭窃案持续发酵。中国台湾高等检察署最新追加起诉三名涉案人员及日商东京威力科创（TEL）公司，揭露更深层的商业间谍网络。

2025年，中国台湾高等检察署侦办一起震惊半导体业界的营业秘密窃取案——台积电2纳米先进制程关键技术遭内部人员外泄。主嫌为前工程师陈力铭，其离职后跳槽至日本半导体设备大厂东京威力科创（TEL），为获取“蚀刻机台”量产测试的关键参数配方，竟买通仍在台积电任职的工程师吴秉毅与戈一平协助窃密。三人于去年依违反《国家安全法》被起诉，检方分别求处重刑。

然而，随着调查深入，检方发现此案背后牵连更广。除原案三人外，另有台积电一名陈姓员工涉嫌向陈力铭提供核心资料，而TEL公司一名卢姓员工则被控湮灭证据。2026年初，高检署正式对上述三人及东京威力科创公司追加起诉，全案进入司法审理新阶段。

根据起诉书内容，陈力铭在侦查期间坦承犯罪事实，并主动供出同伙——台积电另一名陈姓员工，使检方得以迅速锁定并查获该名共犯。如法院认为符合国安法减轻其刑规定，建请依法减刑。陈姓员工犯后态度欠佳，求处有期徒刑8年8月。

卢姓员工知悉被告陈力铭遭台积公司发觉犯行后，为图卸责，删除陈力铭上传的相关档案，有妨害刑事案件调查的行为，且犯后否认犯案，求处1年徒刑。东京威力公司于本案查证过程中，均依检察官要求提供相关事证，配合调查，对厘清案情尚有助益，求处罚金2500万元。

高检署指出，检察官在侦办期间，为厘清TEL是否符合国安法第8条第7项所称「尽力为防止行为」的要件，查发觉该公司于云端硬碟内，尚存有台积国家核心关键技术项「项次19」，也就是「14奈米以下制程之IC制造技术及其关键气体、化学品及设备技术」等营业秘密资料，清查是陈姓员工所窃取。

本案另一焦点在于跨国企业东京威力科创的责任认定。高检署指出，在调查过程中，TEL虽配合提供部分资料，但检方在其云端硬盘中仍发现存有前述“项次19”核心技术文件，证实系由陈姓员工非法外传。尽管TEL最终配合检调厘清案情，高检署仍认定其未能完全履行防止营业秘密外泄的义务，依《国安法》相关规定，对其处以2500万元新台币罚金。

值得一提的是，检方特别审查TEL是否符合《国安法》第8条第7项“尽力防止违法行为发生”的免责要件。经综合评估，虽肯定其后期配合态度，但因未能及时阻断资料外流，仍须承担法律责任。