发布时间:2026-01-21 阅读量:34 来源: 发布人: bebop
导读:2026年1月19日,韩国SK海力士位于忠清北道清州市的半导体制造工厂发生一起工业化学品泄漏事件。尽管涉事物质为具有腐蚀性的磷酸,但由于企业应急响应迅速、员工防护到位,未造成人员伤亡或环境污染。
我爱方案网1月21日消息,据相关媒体报道,韩国忠清北道清州市的SK海力士工厂内发生一起工业物质泄漏事件,5名正在进行管道作业的工作人员接触到从上方管道滴落的液体。经确认,该液体为工业级磷酸,泄漏量约为30升。
磷酸作为一种广泛应用于半导体清洗与蚀刻工艺的无机酸,在芯片制造过程中不可或缺。尽管具备一定腐蚀性,但SK海力士现场作业人员均按规定穿戴全套防护装备,因此未出现任何外伤或健康异常。所有涉事员工在短暂观察后已恢复工作状态。
事件发生后,SK海力士第一时间启动现场应急响应,当即停止涉事区域设备运行,避免泄漏范围进一步扩大,防止更多物质泄漏扩散。
当地消防部门接报后迅速赶赴现场,采用吸附棉等专业处置工具开展泄漏物质清理工作,对现场泄漏的液体进行规范收集,降低环境影响风险。
值得注意的是,SK海力士在清州工厂部署了先进的废水与化学品管理系统,其核心包括:
智能监测平台:实时监控管道压力、流量及化学物质浓度,提前预警潜在泄漏风险;
多级中和处理单元:针对酸碱类废液,采用pH自动调节与沉淀分离技术,实现高效中和;
资源回收机制:部分处理后的水可回用于冷却或清洗环节,减少新鲜水资源消耗。
此次事件中,30升磷酸被迅速导入专用收集槽,并通过厂内处理设施完成中和与净化,全程未排入外部水体,有效避免了对周边生态(尤其是临近锦江流域)的潜在威胁。
根据韩媒ETnews报道,业界消息显示SK海力士已完成其中国无锡工厂的DRAM制程升级,该工厂作为其DRAM核心生产基地,已成功从原有的1z制程转向更先进的1a制程。
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