重磅！ASML 向 imec 交付 High NA EUV 光刻机

导读：全球半导体研发重镇——比利时校际微电子研究中心（imec）宣布接收来自荷兰光刻巨头ASML的一台High NA EUV光刻机EXE:5200。此举标志着亚2纳米芯片制造技术迈入关键验证阶段，将为imec主导的NanoIC中试线提供核心设备支撑。本文将深入解析此次交付背后的技术意义、双方合作渊源及对先进制程发展的推动作用。

随着摩尔定律逼近物理极限，全球半导体行业正加速向亚2纳米节点迈进。在这一进程中，极紫外光刻（EUV）技术成为突破制程瓶颈的关键。而High NA（高数值孔径）EUV光刻系统，则被视为实现更高分辨率、更小特征尺寸图案化的下一代核心装备。

我爱方案网3月19日消息，比利时校际微电子研究中心 imec 宣布，其长期合作伙伴 ASML 已向其交付了一台高数值孔径 (High NA) 极紫外光 (EUV) 光刻系统，这款 EXE:5200 将在 imec 总部比利时鲁汶为亚 2nm 中试线项目 NanoIC 提供关键支持。

imec 此前已在 ASML 总部所在地荷兰费尔德霍芬的 ASML-imec 联合 High NA EUV 光刻实验室与 ASML 一道携手其它业界伙伴共同开拓最先进的半导体图案化技术，而新光刻机的到来将为 imec 解锁更大的研发自由与量产级能力。

据imec官方消息，此次交付的EXE:5200系统将成为其“NanoIC”中试线的核心设备。NanoIC项目旨在构建一条面向亚2纳米节点的先导工艺平台，支持材料、器件结构、光刻工艺及集成方案的全方位验证。High NA EUV的引入，使imec首次在自有产线上具备接近量产条件的先进光刻能力，极大提升了研发灵活性与技术转化效率。

值得注意的是，该设备预计将于2026年第四季度完成全面认证，这意味着未来两年内，imec将围绕此平台开展密集的工艺开发与生态合作，为全球半导体产业提供关键技术路径参考。

imec是全球领先的纳米电子与数字技术研究机构，总部位于比利时鲁汶。其以开放创新模式著称，汇聚了英特尔、三星、台积电、英飞凌等全球顶级半导体企业，共同推进前沿制程、3D集成、AI芯片及可持续半导体技术的研发。imec不仅具备世界一流的洁净室设施，还运营着多条先导工艺线，是连接学术研究与产业落地的重要桥梁。

ASML总部位于荷兰费尔德霍芬，是半导体制造设备领域的绝对领导者。其EUV技术已广泛应用于7nm、5nm乃至3nm芯片量产。而High NA EUV是其面向2nm及以下节点推出的下一代平台，EXE:5200正是该系列的首款量产型号，具备0.55数值孔径，相较当前0.33 NA EUV系统可显著提升成像精度与生产效率。