发布时间：2025-12-26 阅读量：1152 来源: 发布人: suii
据中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司中标“zycgr22011903”采购项目，将提供一台步进扫描式光刻机，成交金额为10999.985万元。
公开资料显示，上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，是我国极少数具有光刻机整机集成研发能力的厂商，公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
步进扫描光刻机（Scanner）是现代投影式光刻的主流形态，通过狭缝动态扫描与步进拼接实现大面积高分辨率图形转移。其核心是在曝光视场内以高速同步扫描完成一次成像，再移动到下一视场重复过程，从而在大曝光视场与高分辨率之间取得平衡。典型参数包括：单次扫描狭缝约26 mm × 8 mm，最大曝光视场可达26 mm × 33 mm；掩模与晶圆反向同步扫描，掩模扫描速度可至约2400 mm/s，对应晶圆速度约600 mm/s，以提升产能。该方式已成为DUV与EUV前道制造的主力设备形态。
结语
此次中标标志着我国在高端光刻装备领域取得重要进展。随着DUV与EUV光刻技术的不断演进，国产光刻机在分辨率、产能和稳定性方面的持续提升，将加速我国在先进制程领域的追赶步伐。
在英伟达GPU与CUDA生态长期主导AI训练与科学仿真的背景下，国产LineShine（灵晟）纯CPU超算以2.198 EFlops持续双精度性能登顶TOP500，印证了“矩阵增强型CPU”正在重构HPC底层硬件标准。 近日，Jack Dongarra、Satoshi Matsuoka、Torsten Hoefler三位HPC权威联合发表《Do We Still Need GPUs? Rethinking AI and Scientific Computing on Matrix-Enhanced CPUs》，系统拆解了无GPU同构超算的四层技术体系：处理器指令集硬件加速、统一HBM高带宽内存架构、全精度混合运算单元、原生高速互联网络。
回顾AI今年的发展轨迹，我们能察觉到一种质的变化：AI不再只是被展示、被调用的“展品”，而是拥有了更明确的“行动感”。从代码编写到机器人奔跑，从算力基建到未来接口，行业正集体从“回答问题”走向“完成任务”。 我们试图透过五个数字，捕捉这一轮产业变革中的关键切片。
展会大数据公布！2027.7.7-9，上海见。
全球知名半导体制造商ROHM近日宣布，面向车载安全功能和保护电路开发出100V耐压MOSFET新品“RS4P063BPHZG”
2026 WAIC落下帷幕，国内AI算力产业的共识正发生清晰转向：单点参数竞赛逐渐退潮，超节点集群、全产业链自主可控与底层架构原始创新成为核心主线。在此背景下，首次参展的东方算芯凭借“高能效软件定义近存计算芯片DF1000”斩获大会最高荣誉SAIL奖。这座奖杯背后，指向了一条不依赖先进制程与既有生态的突围之路。
