台积电2nm技术窃密案扩大：因技术持续外泄，检方追加起诉泄密人员！

中国台湾高检署侦办台积电2纳米制程核心关键技术窃密案，日前已对涉案的前工程师陈力铭及受其买通、利用在职期间非法窃取“蚀刻机台”关键量产测试数据及参数配方的台积电时任工程师吴秉毅、戈一平三人，依违反国安法提起公诉并分别求处重刑。

近日该案进一步扩大，另追加起诉台积电一名陈姓员工，其涉嫌将公司核心技术资料泄露给陈力铭；同时，因东京威力科创（TEL）公司一名卢姓员工涉及协助湮灭证据，亦被一并追加起诉。

起诉指出，陈力铭侦查中坦承犯行，主动供出陈姓共犯，让检方顺利查获陈男，因此求处7年徒刑，如法院认为符合国安法减轻其刑规定，建请依法减刑。陈姓员工犯后态度欠佳，求处有期徒刑8年8月。

卢姓员工知悉被告陈力铭遭台积公司发觉犯行后，为图卸责，删除陈力铭上传的相关档案，有妨害刑事案件调查的行为，且犯后否认犯案，求处1年徒刑。东京威力公司于本案查证过程中，均依检察官要求提供相关事证，配合调查，对厘清案情尚有助益，求处罚金2500万元。

高检署指出，检察官在侦办期间，为厘清TEL是否符合国安法第8条第7项所称「尽力为防止行为」的要件，查发觉该公司于云端硬碟内，尚存有台积国家核心关键技术项「项次19」，也就是「14nm以下制程之IC制造技术及其关键气体、化学品及设备技术」等营业秘密资料，清查是陈姓员工所窃取。

高检署去年11月10日，指挥调查局新竹市调查站，前往云林、台南搜索陈姓员工住居所，向法院声请羁押禁见获准。

结语

此案作为涉及国家核心关键技术的重大商业窃密案，检方在起诉与求刑上展现出对侵害营业秘密与危害国家安全行为的严厉态度。从对主犯陈力铭、共犯陈姓员工分别求处7年、8年8个月重刑，到对协助湮灭证据的卢姓员工及涉案企业TEL公司一并追责，体现了司法体系对技术窃密行为"零容忍"的立场。