全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者新思科技Synopsys, Inc.近日宣布,新思科技Design Platform Fusion 技术已通过三星认证,可应用于其7纳米(nm)低功耗+(LPP-Low Power Plus)工艺的极紫外(EUV)光刻技术。新思科技Design Platform为基于EUV单次曝光布线和连排打孔提供完备的全流程7LPP支持,以确保最大程度地实现设计的可布线性和利用率,同时最大限度地降低电压降(IR-drop
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发布时间 : 2018-07-5
标签 : 行业资讯